レジスト中文是什么意思

• そこで，一般的なポジ型レジストのベイク温度である８０℃で２５分間のベイクを行った。
  在此，以一般正型光刻胶的烘烤温度－－８０℃下进行了２５分钟烘烤。
• Ｅｖｅｎｔのマスクや閾値との比較などの処理はＭｏｎｉｔｏｒレジストリで行われる。
  Ｅｖｅｎｔ掩码和阈值的比较等处理工作都在Ｍｏｎｉｔｏｒ注册表中进行。
• ここで，レジストレーションにおける画像間類似度には，文献の正規化相互情報量を用いる。
  因此，在配准图像之间的类似度上，使用文献报道的正规化相互信息量。
• 以降の処理には，レジストレーション後の画像を用いる。
  在以后的处理中，我们使用配准后的图像。
• レジストレーション精度が向上すれば，ＲＯＩ内体積比は，より安定した特徴量となることが予想される。
  如果配准精度提高，预计ＲＯＩ内体积比将成为更加稳定的特征量。
• ここでは通常のポジ型フォトレジストであるので，図２（ａ）のＡの部分が現像液に可溶となる。
  在这里，因为是普通正型光刻胶，所以图２（ａ）的Ａ部分能够溶于显影液。
• その後，フォトレジストの代わりにシリコーンゴムを構造体として用いたマイクロバルブが多数報告された。
  之后，关于使用硅橡胶替代光刻胶作为结构体的微阀门被大量报告。
• ＣＹＴＯＰ表面への電極パターニングはフォトレジストを用いたリフトオフ等により行うことができる。
  在ＣＹＴＯＰ表面形成电极图案可以通过使用光刻胶的剥离等方法进行。
• 現像後，十分に乾燥させたサンプルに対し，レジストの高さをデジタルマイクロメーターで測定した。
  显影后，对于充分干燥的样品，我们利用数字测微仪测量了光刻胶的高度。
• 抽出される領域には，レジストレーション誤差等の影響で，筋肉や心臓等の輪郭の一部が含まれている。
  受配准误差等的影响，一部分肌肉及心脏等的轮廓被包含在抽取区域中。