光刻的英文
[物理学] photoetching
◇光刻材料 photoetching material; 光刻工艺 photoetching technology; 光刻技术 photoetching technique; photetch
◇光刻材料 photoetching material; 光刻工艺 photoetching technology; 光刻技术 photoetching technique; photetch
例句与用法
更多例句: 下一页- Electron-beam lithography with a novel multilevel resist structure defines the pattern .
采用新型的多层抗蚀剂结构的电子束光刻来形成图形。 - Lithography, as used in the manufacture of ics, is the process of transferring geometic shapes on a mask to the surface of a silicon wafer .
光刻技术应用到集成电路制造中,就是将掩模版的几何图形转移到硅片表面的工艺过程。 - Analysis of nanometrology and atom photolithography
纳米计量与原子光刻技术分析 - The prospect for the maskless lithography technology
无掩模光刻技术的前景 - It also can give accurate figure
光刻线条均匀、一致,可以有效控制图形。
百科释义
光刻()是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
详细百科解释