光刻的英文

发音:   用"光刻"造句
[物理学] photoetching
◇光刻材料 photoetching material; 光刻工艺 photoetching technology; 光刻技术 photoetching technique; photetch
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例句与用法

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  1. Electron-beam lithography with a novel multilevel resist structure defines the pattern .
    采用新型的多层抗蚀剂结构的电子束光刻来形成图形。
  2. Lithography, as used in the manufacture of ics, is the process of transferring geometic shapes on a mask to the surface of a silicon wafer .
    光刻技术应用到集成电路制造中,就是将掩模版的几何图形转移到硅片表面的工艺过程。
  3. Analysis of nanometrology and atom photolithography
    纳米计量与原子光刻技术分析
  4. The prospect for the maskless lithography technology
    无掩模光刻技术的前景
  5. It also can give accurate figure
    光刻线条均匀、一致,可以有效控制图形。

百科释义

光刻()是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
详细百科解释

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