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基底核
的日文
发音
:
用"基底核"造句
大脳基底核
大脳基底核
: 基底核
基底
: きてい4 0 基底 【名】 基础;立体的底
基底液
: きていえききそえき
基底膜
: 底膜
基底解
: きていかい基本解。
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例句与用法
更多例句:
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经脑部电脑断层扫瞄于左脑
基底核
发现一巨大囊状肿瘤。
经脑部计算机断层扫瞄于左脑
基底核
发现一巨大囊状肿瘤。
纹状体是深藏于脑中的一个区域,属于
基底核
的一部份(参见上方插图) 。
电刺激杏仁
基底核
对兔视1区光诱发局部场电位具有抑制作用,槽伏期为10ms ,时程为20ms 。
仟)在观察杏仁
基底核
对on心ff类型神经元光反应的影响过程发现,杏仁基底核对其中一部分神经元的影响只是对其中的。 n反应或。
老年忧郁症常并发
基底核
及前额叶的投射部分出现问题,而导致执行功能障碍。
O )电刺激杏仁
基底核
可在兔视1区皮层表面诱发出一个局部场电位,其潜伏期仅为l 2ms ,表明这可能是经由单突触直接投射的结果。
杏仁复合体可通过杏仁
基底核
与视皮层直接的神经联系调制视皮层神经元的电活动特性,也可能经由其他途径对其施加影响。
)杏仁
基底核
的兴奋性活动可使32 h习5 )的视1区神经元自发放电水平发生改变,其中23神经元发放水平在刺激后一段时间内受到抑制, 9的神经元电活动显著增强。作)电刺激杏仁基底核对兔视1区25加《 0 )的神经元运动敏感性产生影响。
在电刺激杏仁
基底核
时30 … 89 )的神经元光反应被抑制, 17神经元光反应被易化;杏仁复合体影响的潜伏期为2 20ms ,时程为10 78ms ,其中10的神经元光反应影响潜伏期小于sins , 77的影响潜伏期分布在10 20ms范围内。
相关词汇
大脳基底核
: 基底核
基底
: きてい4 0 基底 【名】 基础;立体的底
基底液
: きていえききそえき
基底膜
: 底膜
基底解
: きていかい基本解。
扇基底
: せんきてい
薄基底
: ナローベース
镍基底
: ニッヶルベース
パルス基底
: pulse きてい脉冲底。
假想基底面
: かそうきそていめん
基底剪力
: ベースシアー
基底受精
: きていじゅせい基部受精。基配。
基底変数
: きていへんすう有基变量。
基底平面
: きそめんていめん
基底杂岩
: きばんがん
基底材料
: しじたいきざい
基底流出
: きていりゅうりょうきていりゅうしゅつ
基底流量
: きていりゅうりょうきていりゅうしゅつ
基底準位
: きていじゅんい[原子核等在正常状态时的]最低能量。
基底状態
: 基态
基底的变换
: きていのへんかん
基底矩阵
: きていぎょうれつ
基底破坏
: ていぶはかい
基底砾岩
: きていれきがん
基底涂前处理
: そじちょうせいそじごしらえ
基底平面交替应用法
: きていへいめんじゅんようほう
其他语言
基底核的英语
:basal ganglia
基底核的法语
:Ganglions de la base
基底核的韩语
:기저핵
基底核的俄语
:Базальные ядра
基底核的阿拉伯语
:تصنيف:عقد قاعدية;
相邻词汇
"基底変数"日文
"基底平面"日文
"基底平面交替应用法"日文
"基底杂岩"日文
"基底材料"日文
"基底流出"日文
"基底流量"日文
"基底涂前处理"日文
"基底液"日文
"基底準位"日文
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