lithographie中文是什么意思

• 音标：[litɔgrafi]
  动词变位提示：lithographie是lithographier的变位形式
  
  f. 石印术；石印品，石版画；石印车间
  lithographie
  f.
  平版印刷[法、术]，石印术，制版法
  
  近义词
  estampe, gravure

• "lithographie extrême ultraviolet" 中文翻译 :    极紫外光刻
• "lithographie à faisceau d'électrons" 中文翻译 :    电子束曝光
• "lithographe" 中文翻译 :    音标：[litɔgraf]专业辞典名词【印】石印工人
• "lithogranite" 中文翻译 :    lithogranitem.石印花岗岩
• "lithognathus lithognathus" 中文翻译 :    长头石颌鲷
• "lithoglyphie" 中文翻译 :    f. 玉雕术
• "lithographier" 中文翻译 :    音标：[litɔgrafje]v.t. [印]用石板印刷，石印专业辞典v.t.【印】用石版印刷，石印
• "lithogeognosie" 中文翻译 :    lithogéognosielithogéognosief.岩石成因[论]
• "lithographique" 中文翻译 :    音标：[litɔgrafik]专业辞典adj.【印】石印术的，石印法的，石印的：calcaire~石印灰岩，石印石encre~石印墨lithographiqueadj.平版印刷的，石印的

• La lithographie date de 1910 environ.
  约1910年的石版印制原物
• À partir de 1955, Peter Klasen commence l'apprentissage des techniques de lithographie et de l'aérographe.
  1955年彼得·克拉森开始学习光刻技术和喷枪。
• Les < < caractères > > correspondaient aux traits distinctifs des composantes du système (puits de sondage, lithographie ou communautés voisines).
  " 特性 " 是指钻孔、石印或附近社区等系统组成部分的任何特性。
• Pour les éléments optiques asphériques spécialement conçus pour les équipements de lithographie, voir le paragraphe 3.B.1. Lasers
  注意 关于为制版印刷设备而专门设计的球面光学元件，见第3.B.1.项。
• A. Résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l ' emploi à des longueurs d ' onde inférieures à 350 nm;
  为专门调整（优化）用于波长低于350纳米半导体光刻技术而设计的阳性抗蚀剂；
• Équipement et matériel pour la gravure au plasma, le dépôt par évaporation chimique, la lithographie, la lithographie avec masque, les masques et les résines photosensibles;
  用于等离子体蚀刻、化学蒸汽沈积、平版印刷、掩模平版印刷、掩模和抗光蚀剂的设备和材料；
• Équipement et matériel pour la gravure au plasma, le dépôt par évaporation chimique, la lithographie, la lithographie avec masque, les masques et les résines photosensibles;
  用于等离子体蚀刻、化学蒸汽沈积、平版印刷、掩模平版印刷、掩模和抗光蚀剂的设备和材料；
• A.1. Équipement et matériel pour la gravure au plasma, le dépôt par évaporation chimique, la lithographie, la lithographie avec masque, les masques et les résines photosensibles;
  a.1. 用于等离子体蚀刻、化学蒸汽沉积、平版印刷、掩模平版印刷、掩模和抗光蚀剂的设备和材料；
• A.1. Équipement et matériel pour la gravure au plasma, le dépôt par évaporation chimique, la lithographie, la lithographie avec masque, les masques et les résines photosensibles;
  a.1. 用于等离子体蚀刻、化学蒸汽沉积、平版印刷、掩模平版印刷、掩模和抗光蚀剂的设备和材料；
• A.1. Équipement et matériel pour la gravure au plasma, le dépôt par évaporation chimique, la lithographie, la lithographie avec masque, les masques et les résines photosensibles;
  a.1. 用于等离子体蚀刻、化学蒸汽沈积、平版印刷、掩模平版印刷、掩模 和抗光蚀剂的设备和材料；