化学气相沉积的法文

• dépôt chimique en phase vapeur

• "化"法文翻译    动 1.changer 2.dépenser~钱不少dépenser beaucoup
• "化学"法文翻译    名 chimie应用~la chimie appliquée.
• "学"法文翻译    动 1.étudier;apprendre~文化apprendre à lire et à
• "气"法文翻译    名 1.air;air frais大~层atmosphère. 2.gaz煤~gaz.
• "气相"法文翻译    phase gazeuse
• "相"法文翻译    副 1.réciproquement;mutuellement~识se connaître.
• "沉"法文翻译    动 1.tomber au fond des eaux星~月落.les étoiles sont
• "沉积"法文翻译    动 déposer;précipiter
• "积"法文翻译    动 accumuler;amasser;entasser~少成多.plusieurs sommes
• "有机金属化学气相沉积法" 法文翻译 :    Épitaxie en phase vapeur aux organométalliques
• "物理气相沉积" 法文翻译 :    dépôt physique en phase vapeur
• "异相沉积" 法文翻译 :    sédiment hétéropique
• "陆相沉积" 法文翻译 :    sédiment continental
• "气相" 法文翻译 :    phase gazeuse
• "沉积" 法文翻译 :    动déposer;précipiter
• "科学气球探测" 法文翻译 :    lancement de ballons scientifiques
• "意气相投" 法文翻译 :    s'accorder en tempérament et en goût
• "意气相投的" 法文翻译 :    compatible
• "气相反应" 法文翻译 :    réaction en phase gazeuse
• "气相层析法" 法文翻译 :    chromatographie gazeuse
• "气相氧化" 法文翻译 :    oxydation en phase gazeuse
• "气相色谱" 法文翻译 :    chromatographie en phase gazeusecg
• "气相色谱法" 法文翻译 :    chromatographie en phase gazeuse
• "化学" 法文翻译 :    名chimie应用~la chimie appliquée.
• "再沉积" 法文翻译 :    resédimentation

• 6.B.4 Fours pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique
  6.B.3. 均压机 6.B.4. 化学气相沉积炉
• 6.B.4 Fours pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique
  6.B.3. 均压机 6.B.4. 化学气相沉积炉
• 6.B.4 Fours pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique
  6.B.3. 均压机 6.B.4. 化学气相沉积炉
• 6.B.4 Fours pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique, conçus ou modifiés pour la densification des matières composites carbone-carbone.
  6.B.4. 为碳碳复合材料增密而设计或改良的化学气相沉积炉。
• 6.B.4. Fours pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique, conçus ou modifiés pour la densification des matières composites carbone-carbone.
  6.B.4. 为碳碳复合材料增密而设计或改良的化学气相沉积炉。
• 6.B.4 Fours pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique, conçus ou modifiés pour la densification des matières composites carbone-carbone.
  6.B.4. 为碳碳复合材料增密而设计或改良的化学气相沉积炉。 6.B.5.
• Low-pressure CVD (LPCVD) - CVD réalisée à pression sous-atmosphérique.
  低压化学气相沉积（Low-pressure CVD，LPCVD）：在低压环境下的CVD制程。
• Rapid thermal CVD (RTCVD) - CVD utilise des lampes chauffantes ou d'autres méthodes pour chauffer rapidement le substrat.
  快速热化学气相沉积（Rapid thermal CVD, RTCVD）：使用加热灯或其他方法快速加热晶圆。
• Classification selon la pression totale Atmospheric pressure CVD (APCVD) - CVD réalisée à pression atmosphérique.
  以反应时的压力分类 常压化学气相沉积（Atmospheric Pressure CVD，APCVD）：在常压环境下的CVD制程。
• Direct liquid injection CVD (DLICVD) - dans laquelle les précurseurs sont à l'état liquide (liquide ou solide dissous dans un solvant approprié).
  直接液体注入化学气相沉积（Direct liquid injection CVD，DLICVD）：使用液体（液体或固体溶解在合适的溶液中）形式的前驱物。

• 化学气相沉积的英语：chemical vapor deposition process
• 化学气相沉积的日语：化学気相成長
• 化学气相沉积的韩语：화학기상증착
• 化学气相沉积的俄语：химическое осаждение паров
• 化学气相沉积的阿拉伯语：الترسيب الكيميائي للبخار; ترسيب كيميائي للبخار;
• 化学气相沉积的印尼文：pengendapan uap kimia;