フォトレジスト中文是什么意思

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用"フォトレジスト"造句"フォトレジスト"中国語の意味

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光致抗蚀剂；感光性树脂；光刻胶

"フォト"中文翻译照片
"レジスト"中文翻译无线电导航系统；空中目标速度测量装置；阻碍；抗蚀剂；绝缘物层；记录；雷...
"ネガがたフォトレジスト" 中文翻译 : 负（作用）光致抗蚀剂
"ネガ型フォトレジスト" 中文翻译 : 负（作用）光致抗蚀剂
"フォト·レジスト" 中文翻译 : 【photo resist】〔化学〕光敏抗蚀剂，耐酸性感光树脂(遇光则产生化学反应的感光材料，用于集成电路、印刷、照相等制版)。
"フォトレジスタ" 中文翻译 : 光敏电阻（器）
"フォトレジストデベロッパ" 中文翻译 : 光致抗蚀显影剂
"フォトレジスタンス" 中文翻译 : 光敏（致）电阻
"ホトレジスト" 中文翻译 : 光致抗蚀剂；感光性树脂；光刻胶
"むきホトレジスト" 中文翻译 : 无机的光致（光敏）抗蚀剂
"ストレージレジスタ" 中文翻译 : 存储寄存器
"ミスレジストレーション" 中文翻译 : 不协调（电视彩色）；位置不准
"レジストレスエッチング" 中文翻译 : 无抗蚀剂腐蚀
"レジストレスプロセス" 中文翻译 : 无抗蚀剂工艺技术
"レジストレーション" 中文翻译 : (英) registration 登记;注册;挂号
"ニレジスト" 中文翻译 : Ni―Resist尼列西斯特耐蚀高镍铸铁(3%C，12ー22%Ni,1.5%Si, 1%Mn, 2%Cr, 0ー7.0%Cu)。
"レジスト" 中文翻译 : 无线电导航系统；空中目标速度测量装置；阻碍；抗蚀剂；绝缘物层；记录；雷齐斯托镍铁铬（电阻线）雷齐斯托镍铁铬合金（Ｎｉ６９％、Ｆｅ１９％、Ｃｒ１０％、Ｓｉ１％、Ｃｏ０．４％、Ｍｎ０．５％）
"レジストリ" 中文翻译 : 注册表
"ホトレジスタ" 中文翻译 : 光敏电阻（器）
"アディングストレージレジスタ" 中文翻译 : 加法存储寄存器
"アディングストレージレジスター" 中文翻译 : adding storage register加法存储寄存器。
"エクストラセグメントレジスタ" 中文翻译 : 附加段寄存器
"キャリストレージレジスタ" 中文翻译 : 进位寄存器
"セルフレジストレーション" 中文翻译 : 自动记录
"ドライフィルムホトレジスト" 中文翻译 : 干膜抗光蚀剂；干膜光刻胶

例句与用法

前回，このようなフォトレジストを犠牲層とするプロセスを提案した。
上次，笔者提出了此类利用光刻胶作为牺牲层的工艺。
フォトレジストが塗布された被覆除去ファイバの写真を図２に示す。
去掉保护层涂布了光刻胶的光纤的照片如图２所示。
ここでは通常のポジ型フォトレジストであるので，図２（ａ）のＡの部分が現像液に可溶となる。
在这里，因为是普通正型光刻胶，所以图２（ａ）的Ａ部分能够溶于显影液。
その後，フォトレジストの代わりにシリコーンゴムを構造体として用いたマイクロバルブが多数報告された。
之后，关于使用硅橡胶替代光刻胶作为结构体的微阀门被大量报告。
ＣＹＴＯＰ表面への電極パターニングはフォトレジストを用いたリフトオフ等により行うことができる。
在ＣＹＴＯＰ表面形成电极图案可以通过使用光刻胶的剥离等方法进行。
２ｃｍ×２ｃｍに切断したガラス基板にフォトレジストを塗布し，このフォトマスクを重ねて露光した。
在裁切为２ｃｍ×２ｃｍ的玻璃基板上涂抹光致抗蚀剂，叠放上述光掩膜后进行曝光。
描画は，波長４６５．８ｎｍのＡｒイオンレーザ光を用い，ガラス板に塗布したフォトレジストを感光させて行なう。
描绘使用波长４６５．８ｎｍ的Ａｒ离子激光，使得玻璃板上涂抹的光致抗蚀剂感光来实现。
構造体としてネガ型フォトレジストを用いた酸素，炭酸ガス，ｐＨのマルチセンサアレーやマイクロバルブが最初に提案された。
最初作为结构体被提出的是使用负型光刻胶的氧、二氧化碳、ｐＨ多传感器阵列和微阀门。
まず両面酸化膜の形成された，表面が（１００）面のシリコンウェハ両面にフォトレジストをスピンコーターを用いて塗布する。
首先，在两面形成了氧化膜，表面为（１００）面的硅晶圆的两面使用旋转涂布机涂布光刻胶。
ＰＤＭＳ構造体は，数１０μｍ厚みのフォトレジスト（ＳＵ?８）を鋳型とし，Ｓｙｌｇａｒｄをモールドすることで形成される。
ＰＤＭＳ结构体是以几十μｍ厚的光刻胶（ＳＵ－８）为铸模，通过浇注Ｓｙｌｇａｒｄ形成的。