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光谱线的日文

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"光谱线"の意味用"光谱线"造句

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  • 〈物〉スペクトル線.

例句与用法

  • これらの発光スペクトル線について発光特性を調べ,その結果を,Table2に示す。
    根据这些发光谱线调查了发光特性,其结果如Table2所示。
  • その結果,210?370nmの波長範囲で,鉛の5本の主要な発光スペクトル線が観測された。
    其结果表明,在210~370nm的波长范围内,观察到铅的5个主要的发光谱线
  • 上記の計算では、@equation_0@を用いたが、この係数を用いたスペクトル関数はモノマーのスペクトル線形(特に裾野)に厳密にフィットしない。
    在上述计算中,虽然采用了@equation_0@,但是,采用该系数的光谱函数没有严密的符合单体的光谱线形(特别是底部)。
  • 銀については,328.07nmの波長で最も強いピークが得られたが,272.18と338.29nmの波長においては,活性窒素のスペクトル線と重なり,検出は困難であった。
    银在328.07nm波长时出现最大峰值,但在272.18nm及338.29nm波长时,由于与活性氮的光谱线重叠,所以难以检测。
  • 速度がBohrスピード(vBhor=2.9×10 ̄6m/s)より小さい高電荷イオン40 ̄Ar ̄(16+)(運動エネルギーEK=150keV、速度v=8.5×10 ̄5m/s)が金属(Ni、Mo、AuとAl)表面を入射して、同時に発生したAr原子近赤外線スペクトルとX放射線スペクトルを測量した。
    速度小于Bohr速度(vBhor=2.9×10 ̄6m/s)的高电荷态离子40 ̄Ar ̄(16+)(动能EK=150keV,速度v=8.5×10 ̄5m/s)入射金属(Ni,Mo,Au和Al)表面,同时测量产生的Ar原子近红外光谱线和X射线谱.
  • ここに,Iiはi成分のスペクトル線のX線強度(cps),C1?Cnは各成分の試料中の濃度比(ΣCj=1.0),FはGB調製時の熔剤の質量(g),SはGB調製時の試料の質量(g),μ1?μnはiスペクトル線に対する各成分の質量吸収係数(cm2/g),μFはiスペクトル線に対する熔剤の質量吸収係数(cm2/g)及びkiはiスペクトルに対する定数である。
    这里,Ii是i成分光谱线的X线强度(cps),C1~Cn是各成分试料中的浓度比(ΣCj=1.0),F是GB配制时熔剂的质量(g),S是GB配制时试料的质量(g),μ1~μn是i光谱线对应的各成分的质量衰减系数(cm2/g),μF是i光谱线对应的熔剂的质量衰减系数(cm2/g),ki是i光谱线对应的常数。
  • ここに,Iiはi成分のスペクトル線のX線強度(cps),C1?Cnは各成分の試料中の濃度比(ΣCj=1.0),FはGB調製時の熔剤の質量(g),SはGB調製時の試料の質量(g),μ1?μnはiスペクトル線に対する各成分の質量吸収係数(cm2/g),μFはiスペクトル線に対する熔剤の質量吸収係数(cm2/g)及びkiはiスペクトルに対する定数である。
    这里,Ii是i成分光谱线的X线强度(cps),C1~Cn是各成分试料中的浓度比(ΣCj=1.0),F是GB配制时熔剂的质量(g),S是GB配制时试料的质量(g),μ1~μn是i光谱线对应的各成分的质量衰减系数(cm2/g),μF是i光谱线对应的熔剂的质量衰减系数(cm2/g),ki是i光谱线对应的常数。
  • ここに,Iiはi成分のスペクトル線のX線強度(cps),C1?Cnは各成分の試料中の濃度比(ΣCj=1.0),FはGB調製時の熔剤の質量(g),SはGB調製時の試料の質量(g),μ1?μnはiスペクトル線に対する各成分の質量吸収係数(cm2/g),μFはiスペクトル線に対する熔剤の質量吸収係数(cm2/g)及びkiはiスペクトルに対する定数である。
    这里,Ii是i成分光谱线的X线强度(cps),C1~Cn是各成分试料中的浓度比(ΣCj=1.0),F是GB配制时熔剂的质量(g),S是GB配制时试料的质量(g),μ1~μn是i光谱线对应的各成分的质量衰减系数(cm2/g),μF是i光谱线对应的熔剂的质量衰减系数(cm2/g),ki是i光谱线对应的常数。
  • ここに,Iiはi成分のスペクトル線のX線強度(cps),C1?Cnは各成分の試料中の濃度比(ΣCj=1.0),FはGB調製時の熔剤の質量(g),SはGB調製時の試料の質量(g),μ1?μnはiスペクトル線に対する各成分の質量吸収係数(cm2/g),μFはiスペクトル線に対する熔剤の質量吸収係数(cm2/g)及びkiはiスペクトルに対する定数である。
    这里,Ii是i成分光谱线的X线强度(cps),C1~Cn是各成分试料中的浓度比(ΣCj=1.0),F是GB配制时熔剂的质量(g),S是GB配制时试料的质量(g),μ1~μn是i光谱线对应的各成分的质量衰减系数(cm2/g),μF是i光谱线对应的熔剂的质量衰减系数(cm2/g),ki是i光谱线对应的常数。
  • そこで,本研究では各元素につき3本のスペクトル(Cu:219.96nm,224.70nm,324.75nm;Si:212.41nm,251.61nm,288.16nm)を選び,標準溶液(Cu:0.5μg ml?1,Si:1μg ml?1)と水を用いて光電子増倍管2種類と1?3次線を用いたときの発光強度比S/B{発光スペクトルの強度(S)とバックグラウンドの強度(B)比}を調べた。
    因此,本研究中各元素均使用3条光谱(Cu:219.96nm、224.70nm、324.75nm;Si:212.41nm、251.61nm、288.16nm),利用标准溶液(Cu:0.5μg ml-1,Si:1μg ml-1)和水对使用两种光电倍增管和1~3级光谱时的发光强度比S/B(发光谱线强度(S)和本底强度(B)的比)进行了考察。
用"光谱线"造句  

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