キャリヤーの濃度造句

• ＧａＮ薄膜は金属の有機化学の気相堆積システム（ＭＯＣＶＤ）の設備を採用して、異なる混ぜ合わせた流量のＳｉＨ４を選択することを通じて、ｎ型のキャリヤーの濃度の変化の範囲を３×１０１６￣５．４×１０１８ｃｍ―３する。
  ＧａＮ薄膜采用金属有机化学气相沉积系统（ＭＯＣＶＤ）制备，通过选择不同掺杂流量的ＳｉＨ４，使ｎ型载流子浓度变化范围为３×１０１６￣５．４×１０１８ｃｍ―３．

• キャリヤーの濃度的日语：载流子密度