レチクル造句

• レチクル座ベータ1第1惑星。
• レチクル座ゼータ星(ζ Reticuli) - 連星。
• レチクル座（Reticulum）は、南天の星座の1つ。
• レチクル座イプシロン星(ε Reticuli) - 連星。
• 量産工程で用いられるマスクのより正しい用語はレチクルである。
• 利点が多いが、レチクルとウェハーを同時に同じ比率で移動させる必要があり、実現へのハードルは高かった。
• なお、将来に記載したが、放射光技術に関しては、半導体を構成する上でフォトマスクやレチクルを作成するに当たり重要な技術である。
• 1つの露光エリアを露光する際にレチクルとウェハと固定して露光する装置と、レチクルとウェハーを同時に動かして露光する装置とがある。
• 1つの露光エリアを露光する際にレチクルとウェハと固定して露光する装置と、レチクルとウェハーを同時に動かして露光する装置とがある。
• 開拓初期にこの星へ集まったのは、「ある有名なUFO事件」をはじめとしたUFO関連の風説を信じ、レチクル座ベータに異星人がいると信じた人々だった。
• 高速中性子測定等で用いられている、グラファイト結晶や鉛等の素材を用いたフォトマスクやレチクルを作成しないとエックス線レーザを用いた超精密半導体の量産化は難しい。
• 電子線描画装置（でんしせんびょうがそうち、電子ビーム描画装置、電子ビーム露光装置）は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、主に半導体用レチクル作成に用いられる。
• シリコンなどのウェハーに回路を焼き付ける為、ウェハー上にレジストを塗布し、レチクルのパターンを投影レンズにより1/4～1/5に縮小して、ウェハー上を移動(ステップ)しながら投影露光する。
• スポットビームに比べて微細なパターンは描画できないが、1ショットあたりの描画面積が可変であるためスループットが良く、レチクルの量産工程向けや量産用のLSIに向けたレチクル作成に用いられる。
• スポットビームに比べて微細なパターンは描画できないが、1ショットあたりの描画面積が可変であるためスループットが良く、レチクルの量産工程向けや量産用のLSIに向けたレチクル作成に用いられる。
• 後者のタイプは特性の良いレンズ中心部分を使用して露光することができるので微細化に向いているが、レチクルとウェハーを精密に同期させて露光する必要がある為に構造が複雑となり、装置の価格も高価である。
• シリコン、ガリウムヒ素等の半導体ウェハー上にフォトレジストと呼ばれる感光性有機物質を塗布し、ステッパーと呼ばれる露光装置を用いて、レチクルと呼ばれるフォトマスクに描かれた素子?回路のパターンを焼き付ける。