低温化学气相沉积造句

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我国的低温化学气相沉积(PCVD)技术的研究始于90年代初，PCVD技术主要用于模具涂层，目前在切削刀具领域的应用也十分有限90年代末期，我国开始中温化学气相沉积(MTCVD)技术的研发工作。
80年代末，Krupp.Widia开发的低温化学气相沉积(PCVD)技术达到了实用水平，其工艺处理温度已降至450~650℃，有效控制了η相的产生，可用于螺丝刀具、铣刀、模具的TiN、TiCN、TiC等涂层，但迄今为止，PCVD工艺在刀具涂层领域的应用并不广泛。
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其他语种

低温化学气相沉积的英语：pcvd

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