光掩模图形造句

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然后，再利用各种光刻设备把光掩模图形转移到硅片表面的光致抗蚀层上。
到80年代初，采用这些技术已制作出最细加工线宽为1.3～2.5微米的256千位动态随机存储器芯片，这已接近光掩模加工技术和光掩模图形转移技术的极限。
用光掩模图形造句挺难的，這是一个万能造句的方法

其他语种

光掩模图形的英语：photomask pattern

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