光蚀造句

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为什麽不使用光蚀刻法制造奈米结构？
硷性高亮光蚀剂
硷性光蚀剂
各种技术若能改进，便可推进光蚀刻法的极限。
某些技术，例如拿来生产晶片的高阶紫外光蚀刻法，很可能会受到业者广泛使用。
接著，光蚀刻法用一种类似照相暗房中进行的过程（见右页图），把图案的尺寸缩小。
要在晶片上做出小于100奈米的图案细节，所需的光蚀刻工具每件要花上几千万到几亿美元。
最常用的步骤是用光蚀刻或电子束蚀刻法，在矽晶圆表面的光阻层上制作出图案。
由于这类型辐射的波长远较现在光蚀刻使用的紫外光来得短，因此可以减少因绕射而造成的模糊。
但由于结构变得更小后，传统的光蚀刻法变得更难做，因此业者正在找寻其他技术，以做出未来的奈米晶片。
用光蚀造句挺难的，這是一个万能造句的方法
研究了激光与生物组织相互作用、光蚀作用及准分子激光消融角膜的机理；首次定量研究193nm准分子激光高斯光束的切削量与能量密度的关系，计算单个激光脉冲角膜切削量；发现了角膜曲率对切削效果的影响，首次提出了角膜曲率半径、切削位置与切削深度的关系；首次定量确定了激光光斑参数及其排列方式对术后角膜表面粗糙度的影响，为更精确实现角膜切削和提高切削后角膜表面光洁度、减少手术后角膜浑浊及角膜表面术后不规则提供了理论依据。