次微米造句

• 和次微米波观测过这个系统。
• 深态次微米设计
• 以次微米波观察巨蟹座55A的区域迄今仍未查出任何伴生的尘埃。
• 不论其应用领域为何，所需要用的材料均为次微米或纳米级尺度之材料。
• 2.彭明辉、张辉煌，1997，“次微米及精密定位控制平台设计与制作”，NSC-86-2221-E-007-056R。
• 摘要随著制程技术缩小至深次微米，制程变异容忍度在时钟树设计上已成为一个重要的课题。
• 大约在15年前，半导体开始进入次微米，即小于微米的时代，尔后更有深次微米，比微米小很多的时代。
• 摘要:随著深次微米制程的进步以及降低成本的需求，将各式各样的线路整合至一个系统晶片已经是一种趋势。
• 微机电系统（MEMS）的开发透过半导体制程的技术已更趋成熟稳定，在次微米组件中可包含机械、流体、光学及电控设计。
• 器主要是技术有纳米技术、非球面超精密加工、光学球面模具预计模芯等高科技技术，并进一步迈入次微米及纳米领域。
• 该现象造成的图案侧向误差与被蚀薄膜厚度同数量级，换言之，湿蚀刻技术因之而无法应用在类似「次微米」线宽的精密制程技术！
• 早期在小集成电路时代，每一个6?的晶圆上制作数以千计的晶粒，现在次微米线宽的大型VLSI，每一个8?的晶圆上也只能完成一两百个大型芯片。
• 他的高度和孤立在太平洋的中央，使毛纳基山成为在地球上进行天文观测很重要的陆上基地，对次微米、红外线和光学，都是理想的观测地点。
• 他的高度和孤立在太平洋的中央，使莫纳克亚山成为在地球上进行天文观测很重要的陆上基地，对次微米、红外线和光学，都是理想的观测地点。
• ●中效袋式过滤器滤料采用超细合成纤维以特殊织法制成，滤材内含静电纤维，对次微米粉过滤效率特别良好，具有高效的捕尘能力，高粉尘载量及高透气性。
• 本公司以最先进的技术进行长晶、切割、抛光乃至磊晶等一贯作业制程，产出的矽晶圆不仅适用当前积体电路制造标准，亦符合下一代深次微米制程技术之品质要求。
• Cirrus IFD是世界上最先将云雾侦测室(Cloud Chamber)的技术应用于火灾侦测的极早期火灾侦测器，此侦测技术使得Cirrus IFD对火灾极早期所产生大量不可见之次微米粒子具独特的侦测能力。
• 而其最重要的优点，能兼顾边缘侧向侵蚀现象极微与高蚀刻率两种优点，换言之，本技术中所谓「活性离子蚀刻」(reactive ion etch；RIE)已足敷「次微米」线宽制程技术的要求，而正被大量使用中。
• 使用詹姆士?克拉克?玛克斯威望远镜的观测显示，在次微米波长的辐射延伸至距离恒星半径35角秒之处，辐射的尖峰出现在距离18角秒的地方，相当于距离恒星60天文单位的距离上，在30天文单位的距离上也有较低程度的辐射。
• F7中效过滤袋采用超细合成纤维以特殊织法制成，避免旧式玻璃纤维材料所可能对人体造成的不适，滤材内含静电纤维，对次微米（小于1或小于1micron）粉尘过滤效率特别良好，对1微米的粒子的过滤效率85%，具有高捕尘力，高粉尘载量及高透气性，高使用寿命。