化学汽相沉积法造句

• 化学汽相沉积法    在国内外共发表学术论文170余篇，主要有《ZnS:Tm3+的能级、发光和电子结构的计算》,《用高压显微光谱系统研究非晶态As2S3光学折射率随流体静压力的变化规律》,《低温高压下Na5Eu(WO4)4光谱和晶场参数》,《低温高压金刚石对顶砧显微光谱系统》,《ZnS磷光体制备过程中掺入微量Cu和Mn对微晶结构的影响》,《室温下用无机原料制备的纳米ZnS:Mn的发光》,《室温阴...
• 化学汽相沉积    5 、用等离子体增强的化学汽相沉积的方法制备了zn3n2薄膜，首次通过热氧化zn3n2的方法，制备出了受主型载流子浓度为1017cm - 3的p - zno薄膜。 为了获得高质量的氧化锌薄膜材料，人们已采用分子束外延，有机化学汽相沉积，脉冲激光沉积，磁控溅射等各种技术来制备氧化锌薄膜材料。 本文还利用热灯丝化学汽相沉积( hfcvd )法，采用硼酸三甲酯b ( ch3 ) ...
• 汽相沉积法    文摘:采用物理汽相沉积法设计制作了镁/聚四氟乙烯沉积膜材料，并用红外辐射计对其红外辐射性能进行了测试，测得该材料在1 3 m波段有较强的红外辐射，说明这种方法制作红外辐射烟火材料是可行的。
• 化学气相沉积法    化学气相沉积法设备 化学气相沉积法制备大面积定向碳纳米管 超长单晶硅纳米丝的化学气相沉积法制备 等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼 工具用的复晶钻石涂层，则是使用化学气相沉积法制造的。 等离子体增强热丝化学气相沉积法生长取向金刚石薄膜 本论文分别以化学气相沉积法及电浆辅助化学气相沉积法探讨于低温下合成奈米碳管。 主要内容为以下几个方面: 1 .本文通过化学气相沉积法...
• 化学气相沉积法设备    化学气相沉积法设备
• 热丝化学气相沉积法    等离子体增强热丝化学气相沉积法生长取向金刚石薄膜
• 汽相轴向沉积    （5）制造方法：预塑有汽相轴向沉积（VAD）、化学汽相沉积（CVD）等，拉丝法有管律法（Rod intube）和双坩锅法等。 在通信光纤制备过程中，重要内容之一是光纤预制棒的制备，目前光纤芯预制棒制备技术四种工艺共存，这四种工艺分别为外汽相沉积法（OVD）、汽相轴向沉积法（VAD）、改进汽相沉积法（MCVD）和等离子体化学汽相沉积工艺（PCVD）。
• 汽相沉积的    除了硒和汽相沉积的锗和硅之外，玻璃至少是二原子的。 5 、用等离子体增强的化学汽相沉积的方法制备了zn3n2薄膜，首次通过热氧化zn3n2的方法，制备出了受主型载流子浓度为1017cm - 3的p - zno薄膜。
• 物理汽相沉积    文摘:采用物理汽相沉积法设计制作了镁/聚四氟乙烯沉积膜材料，并用红外辐射计对其红外辐射性能进行了测试，测得该材料在1 3 m波段有较强的红外辐射，说明这种方法制作红外辐射烟火材料是可行的。
• 低温化学气相沉积    我国的低温化学气相沉积(PCVD)技术的研究始于90年代初，PCVD技术主要用于模具涂层，目前在切削刀具领域的应用也十分有限90年代末期，我国开始中温化学气相沉积(MTCVD)技术的研发工作。 80年代末，Krupp.Widia开发的低温化学气相沉积(PCVD)技术达到了实用水平，其工艺处理温度已降至450~650℃，有效控制了η相的产生，可用于螺丝刀具、铣刀、模具的TiN...
• 低压化学气相沉积    大多数现代外延沉积使用低压化学气相沉积(LPCVD)外延生长。 法，包括低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺。 为了节省材料，目前制备多晶硅薄膜电池多采用化学气相沉积法，包括低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺。
• 低压化学汽相淀积    最常用的氮化硅生长法，是低压化学汽相淀积法和等离子增强的化学汽相淀积法，可用于制作第二和第三钝化层。 在该同志的有关理论指导下，研制的斜温区的“低压化学汽相淀积设备”解决了我国集成电路工艺急需，创造了很大的经济效益，1982年获山东省科技进步奖。
• 化学气相沉积    化学气相沉积产物的表征 化学气相沉积法设备 化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量 化学气相沉积光学级金刚石薄膜的研究进展 化学气相沉积碳电极的电化学特性 化学气相沉积法 化学气相沉积法制备大面积定向碳纳米管 超长单晶硅纳米丝的化学气相沉积法制备 等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼 工具用的复晶钻石涂层，则是使用化学气相沉积法制造的。 等离子体增强热丝化学气相沉...
• 化学气相沉积金刚石    化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量 该系统可通过沉积参数的精确控制，以控制沉积过程，减少金刚石膜生长过程中的缺陷，并采用光纤光谱仪检测分析等离子体的可见光光谱以监测微波等离体化学气相沉积过程；利用微波对材料的选择加热特性，通过构造等效方程，并首次将电磁场摄动理论引入到mpcvd的基片加热材料的设计中，建立了非均匀等离子体温度场综合模型、复合介质基片材料的复合温度场模...
• 化学汽相输运    化学汽相输运
• 化学汽相淀积    衬底材料对直接光化学汽相淀积类金刚石碳膜成膜初期的影响 课堂讲授和实验课重点介绍了基本的工艺技术，如扩散、氧化、光刻、化学汽相淀积以及其它。 传统制备氧化物薄膜的方法包括热氧化、化学汽相淀积、金属有机物化学汽相淀积、溶胶凝胶法等等。 在实验上已经用分子束外延和金属有机化学汽相淀积等技术对其物理性质进行了广泛的研究，而理论上的研究主要集中于研究量子线的尺寸对杂质束缚能的影响、...
• 增强化学气相沉积    等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼 实验以硅烷和氧化二氮作为反应气体，采用等离子体增强化学气相沉积( pecvd )技术，在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的二氧化硅薄膜。 ( 3 )通过全方位离子注入和等离子体增强化学气相沉积相结合，发现制备出的类金刚石薄膜既改善了表面形貌又增强了结合力，因此证明了这是一种较好的制备方法。 微波等离子体增强化学气相沉积法（ mpc...
• 沉积地球化学相    研究内容包括：沉积圈的质量和化学成分；沉积作用地球化学；沉积地球化学相；沉积圈的化学演化等。 沉积地球化学相的确定，可以判断元素迁移或聚集的趋势，如铁、锰矿床的富矿需要氧化环境，而石油的生油层、沉积铀矿床、硫化物矿床堆积在还原环境等。 地表各种主要地质地理环境中都有沉积物的堆积，沉积地球化学相可根据沉积物(岩)中的自生矿物、元素组合和同位素来识别，也可把沉积介质的酸碱度(p...
• 真空化学汽相淀积    真空化学汽相淀积
• 等离子化学气相沉积    工艺和等离子化学气相沉积工艺都在这里诞生。 电池的减反射膜为增强等离子化学气相沉积的氮化硅膜，呈深蓝色。 1.国家“八五”重点科技攻关项目“等离子化学气相沉积硬膜技术工业化研究”（1993-1997），己于1997年4月通过国家级鉴定。 其中物理气相沉积主要包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜及离子镀膜等技术;化学气相沉积主要有化学气相渗涂工艺;物理化学气相沉积多用等离子化学气相沉积...
• 等离子体化学气相沉积    本研究中，用自行研制的微波等离子体化学气相沉积( mpcvd )装置对在硬质合金基体上金刚石的涂层进行了研究。 近年来微波等离子体化学气相沉积技术越来越受到人们的关注,它是一种新型的生产技术。 详细介绍了自行研制的2450mhz 5kw带有石英玻璃窗、水冷却不锈钢腔体微波等离子体化学气相沉积( mpcvd )装置。 本文详细介绍了自行研制的2450mhz 5kw带有石英玻璃...
• 金属有机物化学气相沉积    利用量子点在不同形成和熟化阶段具有不同的光学性质这一思想，通过测量zncdse znse量子结构的发光峰的位置与相对强度的变化，获得了量子点的形成和熟化信息，从而既解决了一般金属有机物化学气相沉积( mocvd )设备由于没有原位监测仪器而无法对量子点的形成过程进行监测的不足，又澄清了原子力显微镜表征的量子点熟化过程的争议。
• 化学蒸气沉积法    无定型碳沉积技术Act is（Amo rpho us carbon tre atme nt on in te rn al sur fa ce）由法国的S id el公司开发，使用等离子增强化学蒸气沉积法（PECVD），在PET瓶的内壁喷涂一层无定型碳。
• 气相沉积法    化学气相沉积法设备 化学气相沉积法制备大面积定向碳纳米管 超长单晶硅纳米丝的化学气相沉积法制备 等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼 工具用的复晶钻石涂层，则是使用化学气相沉积法制造的。 等离子体增强热丝化学气相沉积法生长取向金刚石薄膜 本论文分别以化学气相沉积法及电浆辅助化学气相沉积法探讨于低温下合成奈米碳管。 主要内容为以下几个方面: 1 .本文通过化学气相沉积法...
• 物理气相沉积法    另外也对化学气相沉积法( cvd法)和物理气相沉积法( pvd法) (包括其中的溅射法)进行了探讨。