亚微米光刻造句

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光学和电子学的发展都基于微细加工的两个关键技术：亚微米光刻和各向异性刻蚀技术。
主要研究内容为微光学研究及应用：微光学（包括衍射光学）的相关理论与优化设计方法，微列阵光学元件制作的新方法和新工艺、深浮雕微细结构的成形方法与测试技术；折衍混合光学技术和系统；研究新型折衍混合光学系统设计与优化，研制出高性能，轻量化折衍混合光学系统与整机，并拓宽折衍混合光学成像系统在航天领域的应用；微电子光学关键技术原理和方法研究：开展深亚微米光刻关键技术原理和方法研究，包括X射线光刻、准分子光刻、原子力光刻等。
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其他语种

亚微米光刻的英语：submicron lithography

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