弥散质造句

• 弥散质点一般为Al2O3，常用内氧化法制造。
• 弥散质点的存在改变了合金的屈服强度、加工硬化、蠕变和断裂行为。
• 。从弥散质点引起强化这一点来说，沉淀强化与弥散强化并没有大区别。
• 若金属基体中含有第二相弥散质点，或很强的单一取向结构时，则发生异常长大。
• 取向硅钢片要求钢中氧化物夹杂含量低,并必须含有C0.03～0.05％和抑制剂（第二相弥散质点或晶界偏析元素）。
• 晶粒取向硅钢一般都含Si3％,要求钢中氧化物夹杂含量低,并必须含有C0.03～0.05％和抑制剂（第二相弥散质点或晶界偏析元素）。
• 2 Mg和Si含量的选择2．1 Mg2Si量的确定2．1．1 Mg2Si相在合金中的作用Mg2Si在合金中能随着温度的变化而溶解或析出，并以不同的形态存在于合金中：(1)弥散相β’’固溶体中析出的Mg2Si相弥散质点，是一种不稳定相，会随温度的升高而长大。
• 合金元素可以以多种形式存在于基体中：作为溶质原子在固溶体中无序分布，与溶剂原子组成有序结构，形成在结构与成分上与基体不同的弥散质点，并形成尺寸相当的复相混合物等；它们对位错运动的不同程度的阻碍作用是使合金获得高强度的直接原因。

• 弥散质的英语：dispersed part