溅射靶造句

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磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究
电子薄膜用高纯度钛溅射靶机的标准规范
集成电路电极布线用铝合金薄膜及其溅射靶材
-主要从事光电晶体系列材料溅射靶材的制备和光学元器件研发与生产。
在镀膜过程中，保证了每个磁控溅射靶上电流的稳定控制和精确调整。
并以此为基础分别制备了致密、均匀、平整、直径为212mm的plzt和221mm的sno _ 2陶瓷溅射靶材; ( 2 )为克服现有磁控溅射设备的不足,提出了一种新的磁控溅射方案,采用该方案的设备具有:靶材利用率高、镀膜均匀、成膜速度快等特点; ( 3 )运用afm 、 xrd 、 sem以及双光路分光光度计等分析手段对plzt和sno _ 2薄膜的微结构和性能进行研究,找到了制备plzt电光薄膜和sno2透明电极材料的最佳工艺条件。
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其他语种

溅射靶的英语：sputtering target
溅射靶的日语：スパッタリングターゲット

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