负型光刻胶造句

• 在此基础上发展起来的正型、负型光刻胶的质量水平正在不断提高。
• （2）异戊二烯（IP）：主要用途有：①合成高分子化合物系列，包括异戊橡胶、丁基橡胶、负型光刻胶原胶、IP与苯乙烯嵌段共聚体等；②合成萜烯类化合物，制取新激素、维生素E、化妆品角鲨烷、香料等；③生产二氯菊酸乙酯高效、低毒农药杀虫剂。
• 1961年，中国科学院半导体研究所为研制我国第1块集成电路芯片急需一种半导体光刻工艺用的肉桂酸酯负型光刻胶，王民瑞和科研人员一起广泛查阅资料，收集数据，在较短的时间内试制成功，及时向半导体研究所提供了合格产品，于1964年获得国家科技成果三等奖。
• 从国内相关产业对光刻胶的需求量来看，目前主要还是以紫外光刻胶的用量为主，其中的中小规模（5μm以上技术）及大规模集成电路（5μm、2~3μm、0.8~1.2μm技术）企业、分立器件生产企业对于紫外负型光刻胶的需求总量将分别达到100吨/年~150吨/年；用于集成电路、液晶显示的紫外正性光刻胶及用于LED的紫外正负性光刻胶的需求总量在700吨/年~800吨/年之间。

• 负型光刻胶的英语：negative photoresist