溅射刻蚀造句

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其中物理性刻蚀又称为溅射刻蚀。
离子溅射刻蚀，刻蚀出一个比阱还要深的隔离沟槽。
很明显，该溅射刻蚀靠能量的轰击打出原子的过程和溅射非常相像。
为排除溅射陷口边远的影响，溅射刻蚀区域应比入射电子束斑的直径大很多。
通常采用外延、质子轰击、离子注入、固态扩散、离子交换、高频溅射、真空蒸发、等离子聚合等作为成膜工艺；采用光刻、电子束曝光、全息曝光、同步辐射、光锁定、化学刻蚀、溅射刻蚀(离子铣)、反应离子刻蚀作为光路微加工技术。
用溅射刻蚀造句挺难的，這是一个万能造句的方法

其他语种

溅射刻蚀的英语：ion sputter etching

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